Nanotehnologija Poluvodički proces Ultrazvučna tehnologija raspršivanja fotorezista

 

 

 

Nanotehnološka poluvodička tehnologija ultrazvučnog raspršivanja fotootpornog materijala stvara kapljice fotootpornog materijala putem visoko-frekventnih mehaničkih vibracija fotootpornog medija, a zatim ih prenosi na supstrat putem plina nosača.
Ključni zahtjev za osiguravanje ponovljivih, pouzdanih i primjenjivih posljedica u tehnološkom znanju-how-a za fotolitografiju je ravnomjerno premazivanje podloge fotootpornim materijalom. Fotorezist je obično raspršen u otapalima ili vodenim opcijama i materijal je prekomjerne viskoznosti. U skladu sa zahtjevima procesa, ultrazvučno raspršivanje općenito se bira kao metoda za premazivanje fotorezista.

 

 

 

 

 

1. Neravnomjerno prskanje

Razlog:

Mlaznica je začepljena ili istrošena.

Ultrazvučna frekvencija je nestabilna.

Viskoznost tkanine za prskanje sada nije odgovarajuća.

Resolvent:

Očistite ili zamijenite mlaznicu.

Kalibrirajte ultrazvučni generator.

Podesite viskoznost materijala.

2. Čestice spreja su prevelike ili premale

Razlog:

Nepravilno postavljanje ultrazvučnih parametara.

Grafikon mlaznica više nije prikladan za-suvremeni materijal.

Resolvent:

Podesite ultrazvučnu frekvenciju i snagu.

Zamijenite sjajnu mlaznicu.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Popularni tagovi: nanotehnološki poluvodički proces ultrazvučna tehnologija raspršivanja fotootpornog materijala, Kina nanotehnološki postupak poluvodiča ultrazvučna tehnologija prskanja fotootpornog materijala proizvođači, dobavljači, tvornica